高溫高壓反應測試系統(tǒng)適用于光化學高壓反應、二氧化碳CO2還原、二氧化碳CO2還原制甲醇二氧化碳CO2還原制甲烷CH4、氮氧化物NOx的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領域。光催化反應,F(xiàn)ischer-Tropsch反應,加氫反應,聚合反應,均相反應及二氧化碳超臨界反應等。體材質(zhì):不銹鋼316L/純鈦/哈氏合金材質(zhì)(可選)●設計工作溫度:250℃/350℃(可選) ●設計工作壓力:10MPa。
訪問次數(shù):1235 產(chǎn)品價格:面議 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家 更新日期:2023-12-23